103年 鐵路特考 高員三級 電子工程 半導體工程 試卷

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103年公務人員特種考試警察人員考試
103年公務人員特種考試一般警察人員考試
103年特種考試交通事業鐵路人員考試試題
代號70980
別:高員三級鐵路人員考試
科:電子工程
目:半導體工程
考試時間:2小時
可以使
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一、在溫度 300K nntype圓,Phosphorus
,假設其摻雜之雜質均勻分布於晶圓,同時摻雜雜質完全游離化
complete ionization,有效導帶能態密度effective density of states in the conduction band
- ,有效價帶能態密度effect density of states in the valence band
- ,請計算及畫圖說明此晶圓之費米能階(Fermi level, )和導
電帶conduction band, 最低點之電子伏特eV差值。20 分)
(常數
二、 300K 下,有一 n型矽晶圓,其電子遷移率為 1500
: - ,求
其電子平均自由時間(electron mean free time, )?(20 分)
(常數
19
106.1q
C
三、有一 n通道增強型(enhancement typeMOSFET,其 - 特性曲線,當電晶體工
作於飽和區(Saturation region)時, 仍隨 增加而增加。請問:
仍隨 加而增加,其主要原因是什麼效應產生的?(6分)
請說明此效應之原理。(6分)
若此電晶體連接成共源極(common source型式,請畫圖說明其小訊號等效電路
模型(Small signal equivalment circuit models)。(8分)
四、Light emitting diode, LEDLaser diode, LD
件,最常用的磊晶方法為有機金屬化學氣相沉積法Metal Organic Chemical Vapor
Deposition, MOCVDLiquid Phase Epitaxy, LPE
可製作 LED LD 元件,請說明以 MOCVD LPE 來比較,MOCVD 法製作的優
勢為何?(20 分)
五、請比較矽(Si)晶圓及砷化鎵(GaAs)晶圓用來製作積體電路晶片(IC chip)之優
缺點。(20 分)
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