108年 鐵路特考 高員三級 電子工程 半導體工程 試卷

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108
年公務人員特種考試警察人員、一般警察人員考試及
108
年特種考試交通事業鐵路人員、退除役軍人轉任公務人員考試試題
別:鐵路人員考試
別:高員三級考試
別:電子工程
目:半導體工程
考試時間2小時 座號:
※注意:
可以使用電子計算器。
不必抄題,作答時請將試題題號及答案依照順序寫在試卷上,於本試題上作答者,不予計分。
本科目除專門名詞或數理公式外,應使用本國文字作答。
代號:70480
頁次:2
1
一、
請說明什麼是「外質半導體(extrinsic semiconductor」?(5分)
請列舉兩項影響外質半導體導電率(conductivity之可能因素,並說
明其影響方式。10 分)
二、請說明「質量作用定律(mass action law」之物理意義。10 分)
三、
漂移drift及擴散diffusion為半導體中載子傳輸之主要方式
分別說明其物理機制。10 分)
試列出「愛因斯坦關聯式(Einstein relation 」之數學表示式
mathematical equation,並說明其物理意義。10 分)
金屬鎢W)與 n-型矽Si半導體接面溫度 T = 300 K其相關參數如下:
鎢之功函數 Φm = 4.55 Vn-型矽半導體之摻雜濃度 ND = 1016 cm-3
矽之電子親和力 χ = 4.01 V矽之等效導電帶狀態密度 NC = 2.8 ×1019 cm-3
矽之介電常數 ε = 11.7 × ε0 = 11.7 × 8.85 × 10-14 F/cm、單 q = 1.6 × 10-19 C
波茲曼常數(Boltzmann’s constantk = 8.62 × 10-5 eV/K。試求在零偏壓
情況下:(每小題 5分,共 15 分)
理想之蕭特基能障高度(ideal Schottky barrier heightΦB0 =
內建電位能障(built-in potential barrierqVbi =
金屬-半導體接面之最大電場強度|Emax| =
五、具有均勻摻雜陡峭接面abrupt junction)之 p+-n 二極體請說明如何以
電容-電壓(C-V)量測技術,萃取如下參數:(每小題 5分,共 10 分)
n-型區之施體摻雜濃度 ND =
內建電位能障,qVbi =
代號:70480
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六、具有 n-型通道金屬-氧化物-半導體接面場效電晶體MOSFET其相關
參數如下:
通道長度 L = 1.25 μm、電子遷移率 μn = 650 cm2/V-s、閘極氧化層電容
Cox = 6.9 × 10-8 F/cm2、臨界電壓 VT = 0.65 V。在閘-源極偏壓 VGS = 5 V
之下,試求:(每小題 5分,共 10 分)
當逐漸增加汲-源極偏壓,致使電晶體由線性區進入飽和區之汲-源極
電壓 VDS, sat =
已知汲極飽和電流 IDsat= 4 mA,試求電晶體之通道寬度 W =
假設以熱氧化製程形成二氧化矽SiO2其相關參數值表列如下:
(每小題 10 分,共 20 分)
材料 原子量或分子量 密度
Si 28.9 g/mole 2.33 g/cm3
SiO2 60.08 g/mole 2.21 g/cm3
試求 1莫耳(mole)矽及 1莫耳二氧化矽所占的體積分別為?
如欲成長厚度為 100 nm 之二氧化矽層膜,需消耗矽之厚度為?
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