109年 鐵路特考 高員三級 電子工程 半導體工程 試卷

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年公務人員特種考試警察人員、
109
鐵路人員考試
高員三級考試
電子工程
半導體工程
2小時 座號:
※注意:
使
使
代號
70530
頁次
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一、請說明何謂「補償半導體(compensated semiconductor」?(5
請以數學表示式說明補償半導體具有「電中性chargeneutrality
物理意義5分)
二、請說明何謂「電子等效質量(electron effective mass」?5分)
試以能量-波向量E-kdiagram以數學表示式定「電子等
效質量5分)
三、假設 p-型半導體中其多餘電子濃度excess electron concentration, δn
low injection性傳方程
ambipolar transport equation)之表示式,並說明其物理意義。10 分)
四、設有一金/n-型半導體接面:
請說明其形成整流接觸rectifying contact之條件並繪出其能帶圖
10 分)
成歐觸(ohmic contact)之條件,並圖。
10 分)
五、有一均勻 pn T=300K且其
Dn= 25 cm2/s Dp= 10 cm2/s
體與受體摻雜濃度 NA=ND=1016 cm-3、相同之電子與電洞生命週期
τpo =τno =5×10-7 sni=1.5×1010 cm-3q=1.6×10-19 C
波茲曼常數(Boltzmann’s constantk= 8.62 × 10-5 eV/K。試求:
pn 接面之逆向飽和電流密度 Js=8分)
pn 接面之外加順向偏壓 Va= 0.65 V 時,其電流密度=?(7分)
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六、有一 n-型通道金屬-氧化物-半導體場效電晶MOSFET其閘極寬度
W = 15 μm、閘極長度 L = 2 μm、閘極氧化層電容 Cox = 6.9 × 10-8 F/cm2
假設此電晶體操作於汲- VDS = 0.1 V non-
saturation region- VGS = 1.5 V
ID = 35 μA另於閘-源極電壓 VGS = 2.5 V 時、其汲極電流 ID = 75 μA
試求此 MOSFET
電子遷移率 μn=?(8分)
臨界電壓 VT=?(7分)
七、試指出乾式蝕刻技術(dry etching為等向性(isotropic)蝕刻或非等
向性(anisotropic)蝕刻?5分)
假設將 1 μm 厚的鋁Al薄膜沉積在平坦的場氧化層field oxide layer
上,先以光阻在其上定義圖案後,再施以電漿蝕刻製程。已知鋁對
光阻之蝕刻選擇比維持在 3,假設有 30%的過度蝕刻,試問在確保鋁
金屬上表面不被侵蝕之條件下,所需的最薄光阻厚度為何?(15 分)
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