
102年公務人員特種考試外交領事人員及外交行政人員
考試、102年公務人員特種考試法務部調查局調查人員
考試、102年公務人員特種考試國家安全局國家安全情
報人員考試、102年公務人員特種考試民航人員考試、
102年公務人員特種考試經濟部專利商標審查人員考試試題
代號:70170
考 試 別: 專利商標審查人員
等 別: 三等考試
類 科 組: 電子工程
科 目: 半導體元件
考試時間: 2小時 座號:
※注意:
可以使用電子計算器。
不必抄題,作答時請將試題題號及答案依照順序寫在試卷上,於本試題上作答者,不予計分。
(請接背面)
全一張
(
)
一、計算矽原子之間的最小距離為多少公分(cm)?矽晶格中每立方公分有多少矽原子?
矽晶格常數(lattice constant)a=5.43Å=5.43×10
−8 cm。(20 分)
二、有一陡接面(abrupt junction)的矽 p-n 二極體,p型的濃度為 Na=2×1016 cm−3,n型
的濃度為 Nd=1×1016 cm−3,在零偏壓 Va=0 之下,求出p型區的空乏區寬度xp,n型
區的空乏區寬度 xn。若 Va=0.5 V,求出 p型區的空乏區寬度 xp,n型區的空乏區寬
度xn。熱電壓 Vt=kT/q=0.0259 V,矽的本質濃度 ni=1.0×1010 cm−3,矽的介電係數
Si =11.7×8.85 × 10−14 F/cm。(20 分)
三、在 pnp BJT 中,base 區的少數載子表示如下:
PP LxLx BeAexp //
)( +=Δ
在x=0,Δp=Δp1,在 x=Wn,Δp=Δp2。
如果
pnpn LWLW ee
fpfp
A//
2211
−
=
求出 f1及f2的表示式。(10 分)
如果
)sinh(
)sinh(
)sinh(
)sinh(
)( 4
2
3
1
p
n
p
n
L
W
L
W
f
p
f
pxp Δ+Δ=Δ
求出 f3及f4的表示式。(10 分)
四、假設有一 n-channel Si MESFET,n-channel 的doping 為Nd=1×1015 cm−3,channel 的厚
度為 0.6 µm,求出內建電壓(built-in voltage)Vbi 及臨限電壓(threshold voltage)VT。
q=1.6×10−19 C,Vt=kT/q=0.0259 V,Metal 的功函數 qΦm=4.75 eV,Si 的電子親和力
(electron affinity)qX =4.05 eV,傳導帶電子的有效狀態密度 Nc=2.84×1019 cm−3,
矽的本質濃度 ni=1.0×1010 cm−3,矽的介電係數 si =11.7 ×8.85× 10−14 F/cm。(20 分)

102年公務人員特種考試外交領事人員及外交行政人員
考試、102年公務人員特種考試法務部調查局調查人員
考試、102年公務人員特種考試國家安全局國家安全情
報人員考試、102年公務人員特種考試民航人員考試、
102年公務人員特種考試經濟部專利商標審查人員考試試題
代號:70170
考 試 別: 專利商標審查人員
等 別: 三等考試
類 科 組: 電子工程
科 目: 半導體元件
全一張
(
)
五、計算一理想 MOS 電容的臨限電壓(threshold voltage)VT。MOS 的結構為金屬-氧化層-
p型矽半導體,設金屬的功函數 qΦm=4.1 eV,p型矽半導體的濃度為 Na=3×1016 cm−3,
矽的電子親和力(electron affinity)qX =4.05 eV,矽的能隙寬 Eg= 1.12 eV,價電帶
電洞的有效狀態密度 Nv=1.04×1019 cm−3,氧化層的厚度 tox =600 Å,氧化層的介電
係數 ox =3.9 ×8.85 ×10−14 F/cm,矽的介電係數 Si =11.7 × 8.85× 10−14 F/cm,熱電壓
Vt=kT/q=0.0259 V。(20 分)