
113年公務人員高等考試三級考試試題
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不必抄題,作答時請將試題題號及答案依照順序寫在試卷上,於本試題上作答者,不予計分。
本科目得以本國文字或英文作答。
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一、圖一描述兩個串聯等溫 CSTR 並標示入料莫爾流量(FA0)與莫爾濃度(CA0)
及反應器體積(V)及各反應器出口濃度及轉化率符號。若各反應器內為
反應速率為−rA=kCA且體積流速均為。(每小題 5分,共 15 分)
選Damköhler number(Da)描述此串聯等溫 CSTR 轉化率程度,定義
無因次 Da。
以Damköhler number(Da)表示 Tank 1 的出口轉化率(X1)。
若V1=V2,以 Da 表示 Tank 2 的出口轉化率(X2)。
二、設計年產 100 百萬磅(lb)乙烯的工業級製程,已知反應器內反應為乙
烷裂解生產乙烯,反應器操作在 1100 K 與6大氣壓下且乙烷轉化率為
80%。
選用何種反應器較合適並說明原因?(5分)
如何決定該反應器之膨脹係數(expansion factor, )?(5分)
假設乙烷入料濃度為 0.00415 lb mol/ft3及反應速率為−rA=3.07 CA,
試求反應器體積為多少 ft3?(10 分)
圖一
Tank 1
Tank 2
FA0
X1
X2
CA0
V1
CA1
V2
CA2
 

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三、某非恆溫反應器溫度操作如圖二所示,T01,T02,…, T06 為反應器入口溫度。
(每小題 5分,共 15 分)
寫出反應器入口溫度操作在那幾個溫度時,會有多重穩態(multiple
steady states)發生。
操作在那些反應器入口溫度下有存在不穩定之穩態溫度值,並說明對
應圖中那些點。
若在黑點 8穩態溫度(Ts8)發生±5%改變,指出反應器最後穩態溫度
為何?
四、如圖三所示流體在平板上流動形成邊界層厚度(boundary layer)分析。
選用 von Karman 積分式,τ0
ρ=d
dx ∫vx(v∞−vx)dy
δ
0,描述邊界層厚度(),
τ0為平板表面的剪應力,為流體密度。
假設層流(laminar)邊界層區內速度分布為,vx
v∞
=3
2
y
δ−1
2y
δ3,試推
導出在 x=L位置的邊界層厚度()關係式。(10 分)
若紊流(turbulent)邊界層區拖曳係數(drag coefficient, CD)表示成,
CD=0.072NRe,L1/5,NRe,L為在 x=L位置的 Reynolds number,試寫
出紊流邊界層區內可能速度分布。(5分)
圖二
圖三
T01
v
v
v∞v
T02 T03 T04 T05 T06
 

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五、圖四描述半徑 r1金屬電纜線其金屬面溫度為 T1,外層包覆絕緣體,其熱
傳導係數為 k。已知絕緣塑膠材質外緣表面溫度為 T2,暴露環境溫度為
T0與熱對流係數為 h0。
定義絕緣體臨界半徑,並試推導出。(5分)
假設電纜線長1m,半徑1mm,其金屬面溫度為T1=400K且k=385W/m.K,
絕緣體 k=0.02W/m.K。若外界氣溫T0=300K 且h0=20W/m2.K,增加絕
緣體達多少厚度時會低於電纜線未覆蓋絕緣體的熱損失量?(10 分)
六、圖五描述磷摻雜矽晶圓穩態擴散過程。已知磷初始濃度為零,表層濃度
為2.51020 atoms/cm3(CAs),及磷在矽晶圓內擴散係數 6.510-13 cm2/s,
估算需多久時間後在離表面位置 1.76 微米的磷濃度為表層濃度 1%。
提示誤差函數 erf(1.8) = 0.989 及erf(1.9) = 0.992。(10 分)
圖五
圖四
 

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七、圖六描述兩液相流體 V(kg)與L(kg) 含有成分 A,B,C混合後進入萃取單
元達平衡後離開此單元流體 M(kg)。圖中 yA,yC,xA,xC分別表示入口端兩
相流體中 A與C成分質量分率,xAM 與xCM 分別表示出口端 A與C成分
質量分率。
依圖所示寫出對應質量守恆式。(5分)
已知萃取層 yA= 0.04, yC= 0.94,萃餘層 xA= 0.12, xC= 0.02,若出口端
量為 100 kg 且xAM = 0.1,求 V(kg)與L(kg)值?(5分)
圖六
V,yA,yC
L,xA,xC
M, xAM
xCM